捷佳伟创(300724):RF-PECVD设备突破 HJT设备迎头赶上
(资料图)
核心观点:
射频(RF)微晶P 工艺获得突破。根据公司官方公众号8 月2 日的推送,公司常州HJT 中试线成功研发出射频(RF)微晶P 工艺,微晶P 薄膜沉积速率超过2 埃/秒,同时晶化率稳定在50%以上;常州中试线制备的基于双面微晶的12BB 异质结电池平均效率达到25.1%(德国ISFH(哈梅林)标准),电池良品率稳定在98%以上。
RF 存在沉积速率慢结晶性差等缺点。一般的,RF 方式由于较强的离子轰击存在微晶孵化层厚、结晶性较差、消耗氢气较多等问题,VHF 具有结晶性高、离子轰击小、沉积速率快等优点,但是存在驻波效应而导致腔体不能过大因此需要采用多腔体方案,限制了产能的进一步增长。
捷佳伟创突破RF 瓶颈,助力行业降本。根据公司官方公众号8 月2日的推送,捷佳伟创突破射频(RF)微晶P 的高速高质量沉积,打破RF沉积速率慢与晶化率低的固有印象,射频(RF)微晶P 设备工艺均匀性达到6%以内,稳定性和重复性均在中试线量产设备上得到充分验证;RF 的突破有利于公司研发超大腔体的RF 设备,大产能射频板式PECVD 预计将比市面上主流设备减少1-2 个微晶P 腔体,增强公司在HJT 的竞争力并助力行业降本。
盈利预测与投资建议。预计公司23-25 年归母净利润分别为17.94/31.96/42.73 亿元,对应最新股价PE 分别是19x/10x/8x。公司在硼扩、管式PE-Poly、板/管式PECVD-HIT、CAT-CVD 等设备多路线积极布局,并逐步进入收获期,结合可比公司的情况,我们维持公司的合理价值151.83 元/股,维持公司“买入”评级。
风险提示。产生坏账的风险,技术进步不确定的风险,行业竞争加剧的风险,下游需求波动的风险,贸易摩擦的风险。
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